鋁合金電鍍,鋁合金真空鍍膜,鋁合金真空鈦金
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更新日期2023-05-08 20:30
品牌: |
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所在地: |
廣東 深圳市 |
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離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發展起來的沉積技術。在真空條件下,真空鍍膜廠采用適當的方式使鍍膜材料蒸發,利用氣體放電使工作氣體和被蒸發物質部分電離,在氣體離子和被蒸發物質離子的轟擊下,蒸發物質或其反應產物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據鍍膜材料不同的蒸發方式和氣體的離化方式,構成了不同類型的離子鍍,下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優點。
表離子鍍的種類及其特點
直流放電法 電阻 輝光放電dc:0.1kv~5kv 惰性氣體1pa,0.25ma/cm2 結構簡單,膜層結合力強,但鍍件溫升高,手機配件IP電鍍廠家在哪,分散性差!
耐熱,潤滑等鍍件
弧光放電法 電子束、燈絲 弧光放電dc:100v高真空1.33x10-4pa 離化率高,易制成反應膜,可在高真空下成膜,深圳手機配件IP電鍍,利于提高質量 切削工具、金屬裝飾等鍍件
空心陰極法 空心陰極 等離子體電子束dc:0v~200v
惰性氣體或反應氣體 離化率高,蒸發速度大,易獲得高純度膜層 裝飾、耐磨等鍍件
調頻激勵法 電阻、電子束 射頻電場13.56mhzdc:0.1kv~5kv
惰性氣體或反應氣體 離化率高,膜層結合力強,鍍件溫升低,但分散性差 光學、半導體等鍍件
電場蒸發法 電子束 二次電子dc:1kv~5kv
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